Система для электронно-лучевой литографии ZEL304G, Zeptools, 1-20035

Система для электронно-лучевой литографии ZEL304G, Zeptools - это оборудование, предназначенное для создания субмикронных и нанометровых структур сфокусированным пучком электронов на поверхности резистов.

Система отличается тонким лучом размером ≤2 нм, высокоскоростным сканированием 50 МГц и прецизионным позиционированием на основе лазерного интерферометра, обеспечивая решение для прямой литографии в области передовых исследований и разработок полупроводников, производства квантовых устройств и нанофотоники.

Возможности:

- Несколько режимов сканирования: последовательный, змеевидный, спиральный и другие режимы векторного сканирования

- Поддерживает сшивание полей, наложение, многослойную экспозицию(автоматическую), калибровку поля

- Встроенная поддержка внешних каналов: сканирование электронного луча, перемещение предметного столика, управление затвором, обнаружение вторичных электронов

- Лазерный интерферометрический столик: позволяет получать большие поля с высокой точностью

- Графический генератор создает структуры с ультра-высоким разрешением, при сохранении высоких скоростей

Технические характеристики:

Комплектация:

- Система электронно-лучевой литографии EBL Zeptools ZEL304G

- Лазерный интерферометрический столик

- Графический генератор

- Источник бесперебойного питания

Документация:

- Инструкция по применению

- Паспорт