Электронно-лучевая литография
| Цена без НДС | Срок поставки | |
|---|---|---|
| по запросу | под заказ |
Система для электронно-лучевой литографии EBL30, Himera
Система для электронно-лучевой литографии EBL30, Himera предназначена для создания субмикронных и нанометровых структур сфокусированным пучком электронов на поверхности резистов.
Система отличается тонким лучом размером ≤2 нм, высокоскоростным сканированием 50 МГц и прецизионным позиционированием на основе лазерного интерферометра, обеспечивая решение для прямой литографии в области передовых исследований и разработок полупроводников, производства квантовых устройств и нанофотоники.
Возможности:
- Несколько режимов сканирования: последовательный, змеевидный, спиральный и другие режимы векторного сканирования
- Поддерживает сшивание полей, наложение, многослойную экспозицию(автоматическую), калибровку поля
- Встроенная поддержка внешних каналов: сканирование электронного луча, перемещение предметного столика, управление затвором, обнаружение вторичных электронов
- Лазерный интерферометрический столик: позволяет получать большие поля с высокой точностью
- Графический генератор создает структуры с ультра-высоким разрешением, при сохранении высоких скоростей
Технические характеристики:
| Тип источника электронов | Катод Шоттки с автоэмиссией |
| Ускоряющее напряжение, кВ | 0,02 - 30 |
| Разрешение, нм | ≤1 при 15 кВ; ≤1,5 при 1 кВ |
| Плотность тока луча, А/см2 | >5300 |
| Минимальный размер пятна, нм | ≤2 |
| Электронно-лучевой затвор, нс | Время нарастания <100 |
| Ширина линии экспозиции, нм | 10±2 |
| Скорость сканирования, МГц | 25/50 |
Комплектация:
- Система электронно-лучевой литографии Himera EBL 30
- Лазерный интерферометрический столик
- Графический генератор
- Источник бесперебойного питания
Документация:
- Инструкция по применению
- Паспорт
Вы можете купить Система для электронно-лучевой литографии EBL30, Himera в Москве в компании Лабтех по наименьшей цене.
