Электронно-лучевая литография

Электронно-лучевая литография - это технология, позволяющая с помощью сфокусированного пучка электронов рисовать структуры размером в десятки нанометров на поверхности материала.

На кремниевую пластину наносят тонкий слой электронно-чувствительного резиста. Затем пластину помещают в вакуумную камеру электронно-лучевой установки. Электронная пушка генерирует электроны. После облучения свойства резиста изменяются. При проявлении определённые его области удаляются. Получается нанометровая маска. В дальнейшем через неё можно вытравить материал или нанести металл. При позитивном резисте электронный луч разрушает длинные полимерные цепочки. Облучённые участки затем растворяются проявителем. При негативном резисте облучение вызывает сшивку материала, поэтому экспонированные области остаются, а необлучённые удаляются.

Современные системы электронно-лучевой литографии способны формировать структуры порядка нескольких нанометров.

СОСТАВ СИСТЕМЫ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОЙ ЛИТОГРАФИИ

В некотором смысле EBL-система является очень близким родственником сканирующего электронного микроскопа (SEM).

Основные узлы включают:

- Источник электронов

- Электронная колонна

- Система отклонения луча

- Высокоточный столик

- Лазерная интерферометрия

- Вакуумная система

- Детекторы электронов

- Генератор паттернов

Вы можете купить систему электронно-лучевой литографии в Москве в компании Лабтех по наименьшей цене.